X射线荧光光谱仪原理

  仪器信息网 ·  2011-03-24 00:40  ·  16738 次点击
主要用途:仪器是较新型X射线荧光光谱仪,具有重现性好,测量速度快,灵敏度高的特点。能分析F(9)~U(92)之间所有元素。样品可以是固体、粉末、熔融片,液体等,分析对象适用于炼钢、有色金属、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行业样品。无标半定量方法可以对各种形状样品定性分析,并能给出半定量结果,结果准确度对某些样品可以接近定量水平,分析时间短。薄膜分析软件FP-MULT1能作镀层分析,薄膜分析。测量样品的最大尺寸要求为直径51mm,高40mm.
指标信息:1.发射源是Rh靶X光管,最大电流125mA,电压60kV,最大功率3kW2.仪器在真空条件下工作,真空度n2,则介质1相对于介质2为光密介质,介质2相对于介质1为光疏介质。对于X射线,一般固体与空气相比都是光疏介质。所以,如果介质1是空气,那么α1>α2(图2.20右图),即折射线会偏向界面。如果α1足够小,并使α2=0,此时的掠射角α1称为临界角α临界。当α1

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