科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言，高效擦拭布是必备要素。SavinaMX能够轻松满足时代需求，具有出色的功能，足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备，同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。SavinaMX具备此类擦拭布所需的所有属性，是性能最好的擦拭布之一，专为高科技时代而设计。
超级高收缩、高密度整理产品
SavinaMX的横截面
SavinaMX的表面
SavinaMX在专门的细针距针织机上编制而成，其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理，就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700c㎡/g，从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420c㎡/g
特色
掉毛量极少。
迅速而积极地吸收并留住水分。
残留离子和其他物质的溶解率较低。
具备高端的擦拭布性能（灰尘清除量最大，同时不会污染无尘室设备）。
用途
光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
液晶偏转板以及其他物品的生产过程
光盘和磁盘的生产过程
录像机的生产过程
隐形眼镜的生产过程
相机装配线
印刷电路板的清洁工艺
相机镜头镀膜前的清洁工艺
药品生产线清洁工艺
电影胶片清洁工艺
半导体和基础电路的生产过程
精密涂层之前工件的清洁过程
偏光片
精密器件
无尘室
光学元器件
光学镜头玻璃仪器设备
手机玻璃背光源组装摄像头
打印机复印件