（1）反应气体发生器
ASTRON®系列氟离子发生器：广泛应用于CVD工艺腔清洗，它具有功率大，效率高等特点。产品有：
•ASTRONi-AX7670®(3升)
•ASTRONe-AX7680®(4升)
•ASTRONex-AX7685®(6升)
•ASTRONhf-AX7645®(15升)
（2）等离子体电源用于晶圆工艺
ASTeX®等离子体电源广泛应用于CVD、ETCH、去胶等晶圆工艺。
•R-evolution-AX7690®集成远程等离子体源用于晶圆工艺
•AX2600集成等离子体系统
•SmartPower-AX2500®系列微波电源
•ASTeX–AX3060SmartMatch®微波匹配器
•ASTeX–AX7610®下游等离子体源
（3）臭氧发生器
SEMOZON®臭氧发生器及集成系统，LIQUOZON®臭氧水循环系统广泛应用于CVD，去胶和湿法清洗等工艺。
•O3MEGAAX8561®臭氧发生器集成系统
•SEMOZONAX8500®系列臭氧发生器集成系统
•SEMOZONAX8400®系列臭氧发生器
•LIQUOZONSmart®臭氧水递送系统。提供高浓度、大流量臭氧水
•LIQUOZONSingle®臭氧水递送系统。紧凑型设计，适合于单片硅片清洗系统
•LIQUOZONLoopO®3臭氧水循环递送系统。紧凑型设计，带循环水泵，主要用于硅片清洗工艺
•LIQUOZON100和XF®臭氧水递送系统
（4）射频功率电源
ENI®提供高可靠的固态电源，其频率从1MHz到60MHz，功率从3百瓦至13千瓦，还可选自动频率调谐，广泛地应用于Etch，CVD和PVD等工艺。
•中频射频功率电源(1-4MHz)
oNOVA®系列，功率为2.5千瓦和5千瓦，自动频率调谐可选。
oSpectrum®系列，功率从5千瓦至11千瓦，自动频率调谐可选。
•高频射频功率电源(13.56MHz)
oACG系列风冷电源，功率从3百瓦至1千瓦。
oGHW系列电源，功率从1.5千瓦至5千瓦，自动频率调谐可选。
oSpectrum®系列电源，功率从1.5千瓦至10.5千瓦，自动频率调谐可选。
oSurePower®系列电源，功率从1.5千瓦至13千瓦，自动频率调谐可选。
•超高频射频功率电源(27.12-60MHz)
oGEW系列电源，功率从1.5千瓦至3千瓦，自动频率调谐可选。
（5）直流/脉冲功率电源
ENI®直流/脉冲电源主要应用于半导体，光电器件，磁盘，平板显示器等工业中的镀膜工艺。
•Optima®系列直流电源，其功率从5千瓦至60千瓦。
•RPG系列脉冲电源，其功率从5千瓦至10千瓦，频率从50至250KHz，占空比从0至百分之40。MKS等离子体电源及反应气体发生器总述，MKS等离子体电源及反应气体发生器总述，MKS等离子体电源及反应气体发生器总述，MKS等离子体电源及反应气体发生器总述