人们通常认为卤化银是感光材料。此外还有感光性高分子、光敏高分子。它能在光的作用下迅速发生光学反应，从而引起性质上的变化。这种变化已普遍应用于印刷、电子、涂料等工业中。感光高分子还用于制造集成电路，大规模集成电路有以微米为单位的精密图案线条，相当于人发的几十分之一，不可能用铜锌板制作，而要用光敏刻蚀剂（又叫光刻胶）。用作光敏刻蚀剂的高分子材料是感光树脂，其中之一是聚乙烯醇肉桂酸酯（它是有感光作用的功能高分子，其中的肉桂酰基是功能高分子中的功能基团）。把它涂在半导体材料（如硅片）的表面，在上面覆盖一块掩模板（相当于印相时用的照相底片），然后用紫外线照射曝光。受紫外线照射的肉桂酰基发生二聚反应，生成难溶性的交联高分子，没有受紫外线照射的部分用有机溶剂洗去刻蚀剂。根据上述原理，可以制作集成电路。