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简介
形成与存在
与弗仑克尔缺陷比较
简介
肖特基缺陷是由于晶体表面附近的原子热运动到表面，在原来的原子位置留出空位，然后内部邻近的原子再进入这个空位，这样逐步进行而造成的，看来就好像是晶体内部原子跑到晶体表面来了。显然，对于离子晶体，阴阳离子空位总是成对出现；但若是单质，则无这种情况。除了表面外，肖特基缺陷也可在位错或晶界上产生。这种缺陷在晶体内也能运动，也存在着产生和复合的动态平衡。对一定的晶体来说，在确定的温度下，缺陷的浓度也是一定的。空位缺陷的存在可用场离子显微镜直接观察到。
形成与存在
一般来说，随着温度的升高，缺陷的浓度会增大对于典型的离子晶体碱金属卤化物，其肖特基缺陷形成能较低，所以，肖特基缺陷主要存在于碱金属卤化物中，但只有高温时才明显；不过尚只有个别例外。对于氧化物而言，其离子性显然小于碱金属卤化物，所以它的肖特基缺陷形成能较高，只有在较高的温度下，它的肖特基缺陷才变得重要。
与弗仑克尔缺陷比较
肖特基缺陷和弗仑克尔缺陷之间的重要差别之一，在于前者的生成需要一个像晶界、位错或表面之类的晶格混乱区域，使得内部的质点能够逐步移到这些区域，并在原来的位置上留下空位，但弗氏缺陷的产生并无此限制。当肖特基缺陷的浓度较高时，用比重法所测得的固体密度显著地低于用X射线分析得出的晶胞大小数据计算所得的密度。