反射高能电子衍射

  Aaron ·  2010-08-05 20:13  ·  45144 次点击
反射高能电子衍射是高能电子衍射的一种工作模式。它将能量为10~50keV的单能电子掠射(1°~3°)到晶体表面,在向前散射方向收集电子束,或将衍射束显示于荧光屏(见图)。
data/attachment/portal/201111/06/15053186m9g7wj7z7m7pg6.jpg反射高能电子衍射
一幅反射高能衍射图只能给出倒易空间(见倒易点阵)某个二维截面,从衍射点之间的距离可确定相应的晶面间距。旋转样品,可以在荧光屏上得到不同方位角的二维倒易截面,从而仍可获得表面结构的全部对称信息。
由于在晶体中电子散射截面远大于X射线的散射截面,加之掠射角小,从而使反射高能衍射与低能电子衍射一样具有表面灵敏度(约10~40┱),但它不仅限于作单晶表面结构分析,也可用于多晶、孪晶、无定形表面及微粒样品的表面结构分析。
反射高能电子衍射得到广泛运用是与分子束外延技术发展有关。它可用于原位观察外延膜生长情况,为改进生长条件提供依据。与低能电子的情况有所不同,高能电子束与晶体相互作用中非弹性散射较弱,其强度分析的理论还处于探索之中。
参考书目
ShozoIno,JαpaneseJournalofAppliedPhysics,Vol.16,No.6,pp.891~908,1977.

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