微粒晶片表面沉积系统（ParticleWaferDepositionSystem）
高效率微粒表面沉积系统包括最先进的气溶胶雾化发生、静电分离及沉积技术，用于产生可溯源NIST的PSL球及加工过程颗粒沉积在晶片表面的标准晶片，用于研究不同折射稀疏对晶片检测系统的影响并标定检测系统，也可用于评价晶片干法/湿法清洗系统的性能。