真空镀膜机工作原理

  仪器信息网 ·  2011-04-12 16:18  ·  4634 次点击
真空镀膜机用于在真空条件下,采用电阻式蒸发源的形式,对石英晶片蒸镀一层导电膜,通常为铬和银,使其形成电极,以便被作成各种频率的石英晶体振荡器,真空镀膜机可适用于表晶晶振器和高频振器的厂家。
其特点为:
1.整个镀膜过程是在真空、恒温、自动控制中进行的,保证了膜层的均匀性、一致性及膜层的牢固度。
2.在连续高温烘烤的环境中,18个工位的夹具连续60-120度翻转,夹具定位准确,无噪音、无卡滞现象,确保一次蒸镀的6048个晶片上每个被镀表面蒸镀上均匀、牢固的膜层。
3.真空室结构设计紧凑、合理、可靠性好。
4.真空控制选用可编程控制器及石英晶体膜厚速率监控仪,可分层控制膜层厚度,当膜层达到一定厚度时,蒸发源挡板自动关闭并监测蒸发速度,实现真空控制自动化。

0 条回复

暂无讨论,说说你的看法吧!

 回复

你需要  登录  或  注册  后参与讨论!